パテント・リザルト、ナノインプリント分野の特許情報を分析

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パテント・リザルト、ナノインプリント分野の特許情報を分析


掲載日:2012/12/10


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 株式会社パテント・リザルトは、日本に出願されたナノインプリント関連技術について、同社が提供する特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果を発表した。

 ナノインプリントとは、モールド(スタンパー、テンプレート)を樹脂に押しつけ、モールド上に形成されたパターンを樹脂に転写する技術。微細加工に適しており、半導体リソグラフィ、光デバイス、記録メディア、MEMS技術などへの応用が検討されており、既存の微細加工技術と比べ、コスト低減が図れるという特徴があると伝えている。

 今回の調査ではナノインプリント技術関連の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する“パテントスコア”をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行なったとしている。なお、総合力の評価では“パテントスコア”を機関ごとに集計し、同スコアが50点以上のものを合算している。50点以上のものだけを集計している理由は、パテントスコアが低くても特許件数が多いことによって総合力が上がってしまうことを防ぐためとしている。

 パテント・リザルトによると、“総合力ランキング”では、1位東芝、2位米Molecular Imprints、3位キヤノンとなった。ナノインプリント装置メーカーで他社をリードする米Molecular Imprintsが日本においても非常に総合力が高くなっているとし、更には半導体露光装置メーカー3社中、キヤノンとASMLの2社が上位に入っていることも特徴的としている。

 総合力上位5社について特許庁テーマコード分類を用いて技術動向を見ると、東芝、富士フイルムは当初磁気記録媒体、特にDTM、BPMの製造プロセスとしてのナノインプリント(テーマコード5D006、5D074、5D112)が主流だったが、それらは減少傾向にあり、逆に、半導体露光用途(5F146)の増加が目立つとしている。また富士フイルムは樹脂(レジスト)材料(4J100、2H125)に関する公報の増加も見てとれると伝えている。



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