ラティス、大容量3Dデータ描画性能を強化したDMUツールを発売

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ラティス、大容量3Dデータ描画性能を強化したDMUツールを発売


掲載日:2011/10/18


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 ラティス・テクノロジー株式会社は、大容量3Dデータ描画性能を強化したDMUツール「XVL Studio Ver. 10.1」を発売した。

 「XVL Studio」シリーズは、優れた3D基本性能を備え、自動車や航空機、造船といった大規模製品を開発する製造業のデザインレビューや工程設計で利用できる。

 今回の新製品では、設計や生産技術部門のPCの多くに搭載されているNVIDIA Quadroシリーズなどのグラフィックスボードの機能を効果的に使うことで、描画スピードが高速化された。特に、CADで1GBを超える大規模データの場合、従来製品に比べ、約2倍に改善され、大規模製品の設計や工程の3Dによる検証を軽快に行なえる。

 スマートフォン向けの3D画像出力機能もサポートされた。出力結果は、Windows PCに加え、iPhoneやAndroid対応のスマートフォン、iPadなどのタブレット端末で3D画像として表示できる。タブレット端末を用いて製品を3Dでプレゼンテーションしたり、修理する製品の形状を出先でスマートフォンを用いて3Dで確認できる。この機能は、「XVL Studio Standard」以上で提供される。


出荷日・発売日 2011年10月17日 発売
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